改变椭偏仪入射角的方法有两种
2019-12-25
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自动光谱椭偏仪光谱范围覆盖从深紫外到可见光再到近红外.深紫外波长非常适合测量超薄薄膜，比如纳米厚度薄膜厚度，比如硅晶圆的薄膜厚度，典型值在2nm左右。对于测量许多材料的带隙，深紫外光谱椭偏仪也非常重要。
椭圆偏振技术是通过研究光束在样本表面反射后偏振态变化而获得表面薄膜厚度等信息的薄膜测量技术。
与反射计或反射光谱技术不同的是，光谱椭偏仪参数Psi和Del并非在常见入射角下获得。通过改变入射角大小，可获得许多组数据，这样就非常有助于优化椭偏仪测量薄膜或样本表面的能力，因此变角椭偏仪功能远远大于固定角椭偏仪。
改变椭偏仪入射角的方法有两种，一种是手动调节，一种是自动调节入射角，我们可提供两种模式的椭偏仪。
椭偏仪特点：
1、易于安装
2、基于视窗结构的软件，很容易操作
3、的光学设计，以确保能发挥出*的系统性能
4、能够自动的以0.01度的分辨率改变入射角度
5、高功率的DUV－VIS光源，能够应用在很宽的波段内
6、基于阵列设计的探测器系统，以确保快速测量
7、多可测量12层薄膜的厚度及折射率
8、能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数
9、系统配备的光学常数数据及数据库
10、对于每个被测薄膜样品，用户可以利用的TFProbe3.0软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型（EMA）测量分析；
11、三种不同水平的用户控制模式：模式、系统服务模式及初级用户模式
12、灵活的模式可用于各种*的设置和光学模型测试
13、健全的一键按钮(Turn－key)对于快速和日常的测量提供了很好的解决方案
14、用户可根据自己的喜好及操作习惯来配置参数的测量
15、系统有着全自动的计算功能及初始化功能
16、无需外部的光学器件，系统从样品测量信号中，直接就可以对样品进行的校准
17、可精密的调节高度及倾斜度
18、能够应用于测量不同厚度、不同类型的基片
19、各种方案及附件可用于诸如平面成像、测量波长扩展、焦斑测量等各种特殊的需求
20、2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。
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