KLA光学轮廓仪在超薄膜厚度测量中的关键应用

　　KLA光学轮廓仪在钙钛矿电池到半导体制造的超薄膜厚度测量中，凭借其高精度、非接触式测量和多功能性，成为关键工具，具体应用如下：
 

　　一、钙钛矿太阳能电池中的超薄膜厚度测量
 

　　TCO层测量：
 

　　重要性：TCO层是钙钛矿太阳能电池的重要组成部分，必须在导电性能良好的情况下具有很高的透光率、低电阻和高热稳定性。
 

　　测量实例：使用KLA光学轮廓仪，可以精确测量玻璃上IZO薄膜的厚度，如6.8nm和37.1nm的样品。
 

　　ETL层测量：
 

　　重要性：ETL层在钙钛矿太阳能电池中具有收集电子、传输电子并阻隔空穴以降低电子空穴复合率等关键作用。其平整度和平滑度直接影响钙钛矿层的质量。
 

　　测量实例：KLA光学轮廓仪能够测量玻璃上SnO2薄膜的厚度，如10.2nm、14.3nm和19.6nm的样品，为监控ETL层的厚度及均匀性提供有效手段。
 

　　金属电极层测量：
 

　　重要性：金属电极层是钙钛矿太阳能电池的顶层，其工艺厚度及均匀性的控制对于降低成本和提高电池性能至关重要。
 

　　测量实例：使用KLA光学轮廓仪，可以测量玻璃上金属铝薄膜的厚度，如15.0nm、28.0nm、49.8nm和71.1nm的样品。
 

　　二、半导体制造中的超薄膜厚度测量
 

　　高精度与重复性：
 

　　KLA的光学轮廓仪，如Zeta-20，采用ZDot™技术，通过点阵共聚焦方式实现3D形貌+真彩色扫描，Z轴分辨率达到亚纳米级。这种高精度和重复性能够满足半导体行业对膜厚测量的严格要求。
 

　　非接触式测量：
 

　　KLA的光学轮廓仪采用非接触式测量方式，避免了接触式测量可能带来的损伤和误差。这对于半导体制造中脆弱的薄膜结构尤为重要。
 

　　多功能性：
 

　　KLA的光学轮廓仪不仅具备膜厚测量功能，还能测量折射率、反射率、透射率等参数，满足多样化的测量需求。例如，Zeta-20光学轮廓仪支持从纳米级至毫米级台阶测量，并可绘制样品上的薄膜厚度分布图，以确定样品的均匀性。
 

　　易于操作与维护：
 

　　KLA的光学轮廓仪通常具有友好的用户界面和自动化测量功能，易于操作和维护。这有助于降低操作难度，提高测量效率。