KLA R54 四探针电阻率测量仪

KLA R54 四探针电阻率测量仪产品介绍：

KLA R54 四探针电阻率测量仪是KLA的电阻率测量产品。从半导体制造到实现可穿戴技术所需的柔性电子产品，薄膜电阻监控对于任何使用导电薄膜的行业都相当重要。KLA R54 四探针电阻率测量仪在功能上针对金属薄膜均匀性测绘、离子注入表征和退火特性、薄膜厚度和电阻率测量以及非接触式薄膜厚度测量进行了优化。

KLA R54 四探针电阻率测量仪优势：

• 测试点自定义编辑,包括矩形、线性、极坐标以及自定义配置

• 可选至多可容纳300毫米圆形或A4（210mm*297mm）样品

• 导体和半导体薄膜电阻，10个数量级范围适用

• 可配置四探针(4PP)或非接触式涡流(EC)模式

• 封闭系统便于测量光敏或者环境敏感样品

• 支持15mm最大样品高度

• 高精度X-Y平台

• 较小的EC探头尺寸

• 自动EC探针高度误差校正

• 兼容KLA薄膜电阻测量探针;

KLA R54 四探针电阻率测量仪测量原理：

四点探针(4PP)由四个导电探针组成的探头以可控力接触导电层表面,其中在被测导电层和衬底之间有非导电阻挡层。标准测量的探针配置是在两个外侧探针之间施加电流并在两个内侧探针之间测量电压。测量薄膜电阻时，导电层厚度应小于两个探针之间距离的1/2。KLA在R54四探针电阻率测量仪上研发了双模技术，该技术允许测量间隔探针上的电压，并配置了边界效应动态校正和探针间距误差补偿功能。KLA提供了丰富的探针类型以适用和优化不同表面材料的特性表征测量，几乎可用于任何导电薄膜或离子注入层。

电涡流(EC)是非接触式导电薄膜测量技术。通过线圈施加时变电流以产生时变磁场，当该磁场靠近导电表面时，会在该表面中产生感应时变电流（涡流)。这些电涡流反过来会产生它们自己的时变磁场，该磁场与探针线圈耦合并产生与样品的电阻成比例的信号变化。KLA特殊的EC技术，单个探头位于样品顶部，可以动态的调整每个测量点的探头高度，这对测量的准确性和重复性相当重要。EC法不受探头尺寸或表面氧化的影响，非常适合较软的或其它不适用于4PP接触法测量的样品。

KLA R54 四探针电阻率测量仪行业应用：

KLA R54 四探针电阻率测量仪产品应用：

一、金属薄膜均匀性

金属薄膜的薄膜电阻均匀性对于确保元件性能相当重要，大多数金属薄膜都可以通过4PP和EC进行测量。EC推荐用于较厚的高导电金属膜，4PP适用于较薄的金属膜(>10Ω/sq)，但无论如何，4PP/EC均表现出高相关性，从而可以使用任何一种方法都可以获得准确的结果。KLA R54 四探针电阻率测量仪电阻分布图可以表征薄膜均匀性、沉积质量及其它工艺波动。

二、离子注入表征

4PP法是衡量离子注入工艺的标准测量技术。在热退火后通过测试离子注入分布可以识别由于灯故障、晶圆/平台接触不良或注入剂量变化而引起的热点和冷点。对于硅离子注入层，热退火工艺对于活化掺杂离子是必要的。

三、薄膜厚度/电阻率/薄膜电阻

通过采集的晶圆数据，KLA R54 四探针电阻率测量仪可以绘制出薄膜电阻、薄膜厚度或电阻率分布图。通过输入材料的电阻率,可以计算和显示膜厚分布;或者通过输入膜厚数据,则可以计算电阻率分布。

四、数据采集和可视化

KLA R54 四探针电阻率测量仪的RSMapper软件将数据采集和分析功能结合在一起，拥有直观的可视化界面，即可以用于设备本身，也可以进行离线使用。软件自带的各种坐标布局工具可以帮助用户轻松设置数据测量点。

KLA R54 四探针电阻率测量仪产品参数：

KLA R54 四探针电阻率测量仪测量图：