一、市场综述：AI算力驱动产业重构，板块短期波动加剧2026年7月5日，全球半导体行业在AI算力需求的强劲驱动下持续深层次重构，但短期市场波动显著加剧。一方面，瑞银、美银、野村证券等国际投行密集发布研报，普遍看好AI基础设施相关的半导体板块长期前景；另一方面，费城半导体指数在7月首周遭遇剧烈抛售，两个交易日累计跌超11%。这种“基本面强劲、短期回调”的格局，成为当前半导体行业的典型特征。瑞银（UBS）在最新报告中指出，科技行业正在发生“非同寻常”的转变，人工智能基础设施的表现...

KRUSS水滴角测量仪，从膜厚到表界面特性的检测新维度行业背景在半导体、显示面板、新材料这些领域中，材料的表面性能往往与产品的质量和可靠息息相关。优尼康科技有限公司这些年一直专注于膜厚测量、表面形貌测量，材料力学性能测试、表面缺陷检测等领域。帮用户解决对应的问题。但随着客户对产品性能的要求越来越高，新的需求不断冒出来，厚度和形貌都测出来了，表界面的特性该如何去量化呢？举几个例子。半导体厂里，晶圆经过RCA标准清洗之后，表面到底干不干净？可以通过测量清洗后的表面接触角，看有没有...

最近有客户咨询我们想采购一台测厚度的设备，但看到我们既有FilmetricsF系列光学膜厚仪，又有KLAAlpha-StepD系列、TencorP系列探针台阶仪，不清楚该如何选择。最后通过了解后推荐了KLAP-7台阶仪。这个问题其实比较有代表性。部分用户上来就说我要测厚度，但在精密薄膜测量领域，厚度其实泛指两类不同的测量对象与技术路径。今天我们就把光学膜厚仪和台阶仪的的核心差异、以及台阶仪的选型逻辑梳理清楚，帮正在选型的你快速找准方向。一、光学膜厚仪和探针台阶仪的差异这两类产...

需求背景光刻胶曝光显影后，表面会形成带图形的台阶结构，其台阶高度直接反映曝光剂量、显影时间、烘烤温度三样参数是否匹配。台阶一旦测不准，后道刻蚀、离子注入等工序都可能跟着跑偏。因此显影后台阶高度是光刻工艺调试中仅次于线宽的关键指标，需要一台分辨率高、扫描范围大、又不会划伤软胶的台阶仪来测量。仪器参数KLAP-7桌面式触针台阶仪，主要参数如下表。项目KLAP-7台阶仪扫描长度最长可达100mm以上垂直分辨率Å级（0.1nm）触针压力可调至1mg量级，适合软胶样品台200mm晶圆加...

一、核心基础原理：薄膜光干涉Filmetrics光学膜厚测量仪核心依托薄膜分光束干涉效应，当宽光谱白光照射样品薄膜表面时，会产生两束关键反射光：薄膜上表面(空气-膜层界面)反射光；薄膜下表面(膜层-基底界面)反射光。两束反射光波长相同、存在光程差，相遇后发生相干干涉，不同波长的光会形成强弱交替的干涉光谱曲线，Filmetrics设备通过采集这条光谱完成膜厚计算。二、分光干涉完整工作流程宽光谱光源发射内置氘卤复合白光光源，输出200–1100nm连续宽波段光线，经光纤导入探头垂...

多层膜厚度测量：反射光谱解谱方法详解一束白光打到多层薄膜上，反射光谱里同时叠加了所有层的干涉信息。问题是，怎么从这条光谱曲线里，把每一层各自的厚度拆出来？这事比表面看起来难得多——单层膜只要拟合一个厚度参数，多层膜的自由参数随层数暴增，但反射光谱中真正独立的信息量并没有同步增长。这篇文章不讲花架子，我们直接进入传输矩阵法（TMM）怎么算反射光谱、色散模型怎么压参数、拟合算法怎么从光谱里捞厚度，以及最重要的一件事：什么情况下你解出来的结果可以信，什么情况下只是数学上看着漂亮。目...