光学膜厚测量仪的原理和产品特性介绍

　　光学膜厚测量仪测量原理如下：在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光，这时光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层 (晶圆或玻璃)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。光学薄膜测厚仪就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。

　　仪器的光源使用钨丝灯，波长范围是400 nm~800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理，测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 主要的产品之一，有影像处理的功能，是超越一般薄膜厚度测量仪器的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的zui小直径为0.2μm，远超过一般厚度测量仪器的测量jixian (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图也可一次测量得到，使速度和度都大大提高。

　　光学膜厚测量仪特性：

　　a.测量膜厚和折射率，膜厚重复精度达１纳米，折射率重复精度达0.01；

　　b.有配气浮平台便于移动大片玻璃；

　　c.质量控制,生产过程控制；

　　d.用于检测太阳能AR减反膜玻璃生产线中整片玻璃的在线检测或离线抽检。

　　2.光学膜厚测量仪AR2 –ONLINE配套软件特性：

　　a.菜单管理；

　　b.实时在线或离线抽检监控和历史数据界面；

　　c.输出至SQL服务器；小型内置式SQL；

　　d.光学膜厚测量仪可根据客户要求定制界面。