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光学膜厚测量仪的原理和产品特性介绍

2019-08-27 [789]
   光学膜厚测量仪的特点是非接触, 非破坏方式测量,无需样品的前处理,软件支持Windows操作系统等。光学薄膜测厚仪是使用可视光测量晶圆、玻璃等基材上形成的氧化膜,氮化膜,光致抗蚀剂等非金属薄膜厚度的仪器。
  光学膜厚测量仪测量原理如下:在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光,这时光的一部分在膜的表面反射,另一部分透进薄膜,然后在膜与底层 (晶圆或玻璃)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。光学薄膜测厚仪就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。
  仪器的光源使用钨丝灯,波长范围是400 nm~800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理,测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 主要的产品之一,有影像处理的功能,是超越一般薄膜厚度测量仪器的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的zui小直径为0.2μm,远超过一般厚度测量仪器的测量jixian (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图也可一次测量得到,使速度和度都大大提高。
  光学膜厚测量仪特性:
  a.测量膜厚和折射率,膜厚重复精度达1纳米,折射率重复精度达0.01;
  b.有配气浮平台便于移动大片玻璃;
  c.质量控制,生产过程控制;
  d.用于检测太阳能AR减反膜玻璃生产线中整片玻璃的在线检测或离线抽检。
  2.光学膜厚测量仪AR2 –ONLINE配套软件特性:
  a.菜单管理;
  b.实时在线或离线抽检监控和历史数据界面;
  c.输出至SQL服务器;小型内置式SQL;
  d.光学膜厚测量仪可根据客户要求定制界面。